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TECHNICAL ARTICLES氣氛壓力燒結(jié)爐的主要參數(shù)一般為2000℃和10MPa壓力以下,由于其壓力較低導(dǎo)致設(shè)備結(jié)構(gòu)形式與HIP相比差異較大,成本較低,因而在局部領(lǐng)域獲得了廣泛的應(yīng)用,主要應(yīng)用于硬質(zhì)合金、高比重合金、氮化硅、氧化鋁、氮化硼、碳碳復(fù)合材料等多種高新技術(shù)材料領(lǐng)域。該設(shè)備可作常壓(或真空)燒結(jié)、氣氛壓力燒結(jié)和反應(yīng)燒結(jié)。
氣氛壓力燒結(jié)爐按照安裝方式可分為立式和和臥式,按照大小可分為實(shí)驗(yàn)室型、工程型,能夠根據(jù)用戶特定需求進(jìn)行專門設(shè)計(jì)制造。氣氛壓力燒結(jié)爐主要由主機(jī)系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)、真空壓力系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)等構(gòu)成。
產(chǎn)品規(guī)格:立式:熱區(qū)直徑Φ100~1000mm,熱區(qū)高度150~1500mm,壓力10MPa。
臥式:截面尺寸□300~800mm,熱區(qū)長(zhǎng)度600~2500mm,壓力10MPa。
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